PVD-beläggningsmaterial
-
![4N ZrO2 Sputtering Target Med Cu Backplate]()
4N ZrO2 Sputtering Target Med Cu BackplateVåra sprutmål för zirkoniumdioxid med stödplåtar är tillverkade med hjälp av hög-rent zirkoniumdioxidmaterial, säkert bundna till en metallstödplatta; denna design säkerställer snabb...Mer -
![ZrC Sputtering Target Med Cu Backplate]()
ZrC Sputtering Target Med Cu BackplateVåra zirkoniumkarbid (ZrC) förstoftningsmål med kopparstödplåtar har en robust bindning mellan ZrC-målmaterialet med hög -renhet och kopparunderlaget. Denna design säkerställer utmärkt termisk och...Mer -
![Ta 5at% Dopad ZrC Sputtering Target]()
Ta 5at% Dopad ZrC Sputtering TargetExakt dopning av zirkoniumkarbid med ett förhållande på 5 atomprocent tantal förbättrar avsevärt målmaterialets höga-temperaturbeständighet, termisk chockbeständighet och korrosionsbeständighet....Mer -
![4N IGZO Sputtering Target]()
4N IGZO Sputtering TargetVåra 4N IGZO förstoftningsmål ger mer stabil och effektiv sputterprestanda. Specialiserade för high-display- och halvledartillämpningar, underlättar realiseringen av överlägsen elektronmobilitet...Mer -
![4N HfO2-mål med Cu-bakplatta]()
4N HfO2-mål med Cu-bakplatta4N HfO₂ Sputtering Target med kopparunderlag använder 99,99 % renhet hafniumoxidmaterial. Integrerad med en kopparbaksida ger den utmärkt värmeledningsförmåga och är idealisk för optisk...Mer -
![4N HfO2 Dopad med 2 % Ti-mål]()
4N HfO2 Dopad med 2 % Ti-målDet 2 % Ti-dopade HfO₂-förstoftningsmålet är tillverkat med ett hafniumoxidsubstrat med hög -renhet, exakt dopat med 2 % titan. Kännetecknad av dess sammansättningslikformighet och höga densitet...Mer -
![4N HfO2 Sputtering Target]()
4N HfO2 Sputtering Target4N hög-renhet för hafniumdioxidförstoftning (99,99 % renhet) – lämplig för applikationer i optiska beläggningar, halvledare och precisionselektronik. Har hög densitet, enhetlig sammansättning och...Mer -
![Anpassningsbart 4N kolförstoftningsmål]()
Anpassningsbart 4N kolförstoftningsmålVåra hög-ren 4N kolförstoftningsmål är tillverkade av 99,99 % rent kolmaterial, med låga föroreningsnivåer och gör dem idealiska för applikationer i halvledare, optiska tunna filmer och...Mer -
![B4C Sputtering Target]()
B4C Sputtering TargetDen här produkten använder hög-borkarbidråmaterial och har exceptionell hårdhet och robust termisk stabilitet, vilket gör den idealisk för applikationer inom halvledartillverkning, optiska...Mer -
![Anpassade mål för borförstoftning]()
Anpassade mål för borförstoftningVi tillhandahåller hög-renhet, täta bormål som är perfekt lämpade för halvledar- och beläggningsprocesser. Vi stödjer skräddarsydd tillverkning baserat på tekniska ritningar, strikt kontrollerande...Mer -
![Anpassad 3N5 Round Tungsten Target]()
Anpassad 3N5 Round Tungsten TargetVi erbjuder skräddarsydda-cirkulära volframmål med 3N5-renhet (99,95 %). De är tillverkade med pulvermetallurgi och har en enhetlig mikrostruktur, hög densitet och är fria från porositet och...Mer -
![Anpassat högrenhets Hf-förstoftningsmål]()
Anpassat högrenhets Hf-förstoftningsmålVi erbjuder skräddarsydda-hög-förstoftningsmål för hafnium med en renhet som överstiger 99,9 %, med enhetlig densitet och fin mikrostruktur. Speciellt utformade för halvledarchips, optiska...Mer
Vi är professionella leverantörer av pvd-beläggningsmaterial i Kina, specialiserade på att tillhandahålla kundanpassad service av hög kvalitet. Vi välkomnar dig varmt att köpa rabatterat pvd-beläggningsmaterial i lager här och få gratis prov från vår fabrik. För priskonsultation, kontakta oss.