Alloy sputtering mål
-
![Koboltjärnbor (CoFeB) Sputtringsmål]()
Koboltjärnbor (CoFeB) SputtringsmålFramväxten av tunnfilm CoFeB har drivit forskning och industriella tillämpningar under de senaste decennierna, med det magnetiska direktminnet (MRAM) det mest framträdande exemplet. På grund av...Mer -
![Kobolt Tantal Zirkonium (CoTaZr) Sputtering Target]()
Kobolt Tantal Zirkonium (CoTaZr) Sputtering TargetCobalt Tantal Zirconium Sputtering Target produceras av smältteknik, det används vanligtvis för magnetiska datalagringsfält. Med upp till 3N5 renhet, enhetlig kornstorlek, lägre syrehalt kan...Mer -
![Cerium Gadolinium (CeGd) Sputtringsmål]()
Cerium Gadolinium (CeGd) SputtringsmålCerium Gadolinium Alloy Sputtering Target (CeGd) är ett nyckelmaterial vid tunnfilmsavsättning. Denna legering, som kombinerar cerium och gadolinium, erbjuder unika egenskaper för...Mer
Vi är professionella legeringsförstoftningar som är inriktade på leverantörer i Kina, specialiserade på att tillhandahålla kundanpassad service av hög kvalitet. Vi välkomnar dig varmt att köpa rabatterade legeringssputtermål i lager här och få gratis prov från vår fabrik. För priskonsultation, kontakta oss.