Holmium (Ho) Sputtering Target
Holmium (Ho) Sputtering Target

Holmium (Ho) Sputtering Target

Holmium sputtering target är ett silvermetallmål tillverkat av högren Holmium (Ho) metall. Den har en smältpunkt på 1474 grader, en kokpunkt på 2695 grader och en densitet på 8,79 g/cm3.
Skicka förfrågan
Produktbeskrivning

 

Holmium sputtering target är ett silvermetallmål tillverkat av högren Holmium (Ho) metall. Den har en smältpunkt på 1474 grader, en kokpunkt på 2695 grader och en densitet på 8,79 g/cm3.

 

Holmium är ett relativt mjukt och formbart element som är ganska korrosionsbeständigt och stabilt i torr luft vid standardtemperatur och tryck. I fuktig luft och vid högre temperaturer oxiderar den dock snabbt och bildar en gulaktig oxid. I ren form har holmium en metallisk, ljus silverglans.

 

Specifikation:

 

Form

Skiva/Rektangulär/Rör

Bindning

Obindning/Bindning

Symbol

Hf

Renhet

99.9%

 

Sputtering Targets Krav

 

Allmänna krav som storlek, planhet, renhet, föroreningshalt, densitet, N/O/C/S, kornstorlek och defektkontroll. Särskilda krav inkluderar ytjämnhet, resistansvärde, kornstorlekslikformighet, sammansättning och vävnadslikformighet, magnetisk ledningsförmåga, ultrahög densitet, ultrafina korn, etc.

 

Hafnium Sputtering Target-applikationer

 

Hafnium Sputtering Target används främst inom elektronik- och informationsindustrin, glasbeläggningsfält, slitstarka material, korrosionsbeständighet vid hög temperatur, högkvalitativa dekorativa varor och andra industrier.

 

Relaterat förstoftningsmaterial

 

Ho2O3 sputtermål

 

Populära Taggar: holmium (ho) sputtering target, Kina holmium (ho) sputtering target leverantörer, fabrik