Zink (Zn) Sputtering Mål

Zinkförstoftningsmål har samma egenskaper som sitt råmaterial. Zink är ett kemiskt grundämne med symbolen Zn och atomnummer 30. det är en silvervit, blåaktig metall, i rumstemperatur, den är spröd, när 100 ~ 150 grader är mjuk, över 200 grader blir den torr igen .Den har aktiva kemiska egenskaper, vid normal temperatur i luften, det finns en tunn och tät basisk zinkkarbonatfilm på ytan, som för att förhindra ytterligare oxidation, när temperaturen är över 225 grader, oxideras den kraftigt.

Metallzink kan göras till utmärkta legeringar, främst i form av galvaniserad, zinkbaserad legering, zinkoxid som används i stor utsträckning inom bilar, konstruktion, hushållsapparater, fartyg, lätt industri, maskiner, batterier och andra industrier. Galvanisering hänvisar till ytbehandlingstekniken för att plätera ett lager av zink på ytan av metall, legering eller annat material i syfte att skydda och förhindra rost.

Zinc Sputtering Target produceras med smältteknik, det används normalt för att deponera ZnO tunnfilm, vilket kan vara självlysande film av LED- och OLED-produkter, eller transparent ledande film av OLED-produkter och antireflektionsfilm av tunnfilmssolceller. Med upp till 4N renhet och speciell glödgningsbehandling, enhetlig kornstorlek, lägre gashalt, kan vi erhålla konstanta erosionshastigheter samt hög renhet och homogen tunnfilmsbeläggning under PVD-processen.

ZnSn Sputtering Target

ZnAl Sputtering Target

CuZn Sputtering Target

ZnO Sputtering Target

ZnS Sputtering Target

Populära Taggar: zink (zn) sputtering mål, Kina zink (zn) sputtering mål leverantörer, fabrik