Indium Tennoxid (ITO) Sputtering Mål
Indium Tennoxid (ITO) Sputtering Mål

Indium Tennoxid (ITO) Sputtering Mål

ITO-målmaterial, Indium Tin Oxide, är ett viktigt transparent ledande material. Inom området för tunnfilmsberedning används ITO-mål i stor utsträckning som ett grundläggande råmaterial i elektroniska och optoelektroniska enheter. Den kan ge god ledningsförmåga samtidigt som den bibehåller hög transparens, vilket gör ITO till ett idealiskt val för att förbereda transparenta ledande filmer.
Skicka förfrågan
Produktbeskrivning

 

ITO-målmaterial, Indium Tin Oxide, är ett viktigt transparent ledande material. Inom området för tunnfilmsberedning används ITO-mål i stor utsträckning som ett grundläggande råmaterial i elektroniska och optoelektroniska enheter. Den kan ge god ledningsförmåga samtidigt som den bibehåller hög transparens, vilket gör ITO till ett idealiskt val för att förbereda transparenta ledande filmer.

 

Sammansättningsanalys och kemisk sammansättning

 

Indiumtennoxid ITO Sputtering Target

ITO-målmaterialet är en förening som bildas av två element, indium (In) och tenn (Sn), i en oxiderande miljö. Den kemiska formeln är In2O3: SnO2, och typiskt är viktförhållandet indium till tenn cirka 90:10. Denna specifika kemiska kombination säkerställer hög transparens och utmärkt ledningsförmåga hos materialet. Indiums huvudsakliga funktion är att ge hög ledningsförmåga, och tillsatsen av tenn används för att förbättra den kemiska stabiliteten och den mekaniska hårdheten hos hela materialet.

 

Fysiska och kemiska egenskaper

 

Optisk transparens: ITO uppvisar en hög grad av transparens, särskilt i det synliga ljusbandet, vilket gör det särskilt viktigt i applikationer som LCD-skärmar och pekskärmar.

Konduktivitet: Konduktiviteten hos ITO är en annan viktig egenskap, främst tillskriven den elektroniska strukturen av indiumtennoxid, vilket gör det till ett idealiskt ledande material, särskilt i applikationer som kräver genomskinliga elektroder.

Termisk stabilitet: Vid höga temperaturer kan ITO bibehålla stabiliteten för dess kemiska och fysikaliska egenskaper, vilket är avgörande för elektroniska enheter som arbetar vid höga temperaturer.

Mekanisk hårdhet: Även om ITO har en viss grad av sprödhet, är dess mekaniska hårdhet fortfarande tillräcklig för att uppfylla kraven för de flesta elektroniska applikationer.

 

namn

ITO Sputtering Target Indium Tennoxid Keramiskt Target (ITO Targets)

Material

Indiummetallmaterial

Renhet

99,9 %-99.999 %, 3N,3N5,4N,5N osv

Storlek

D50,8x3mm,1-10mm, D3x3mm, 2inch,3inch,eller på begäran

Färg

Svart färg

Form

anpassat

Yta

Polerad yta

Densitet

7,31 g/cm3

Smältpunkt

156 grader

Ansökan

PVD-filmbeläggning, optisk tunnfilmsbeläggning, industrianvändning, process, halvledarområde, experiment etc.

 

Populära Taggar: indium tennoxid (ito) sputtering target, Kina indium tin oxide (ito) sputtering target leverantörer, fabrik