PVD-beläggningsmaterial

• Selen (Se) Sputtering Target

  Selen är ett icke-metalliskt kemiskt grundämne, medlem av grupp XVI i det periodiska systemet. I kemisk aktivitet och fysikaliska egenskaper liknar den svavel och tellur. Selenmetall leder...

  Mer
• Kisel (Si) Stamning Mål

  Polykristallint kisel, även kallat polykisel eller poly-Si, är en hög renhet, polykristallin form av kisel, som används som råmaterial av solcells- och elektronikindustrin. Polykisel tillverkas av...

  Mer
• Tenn (Sn) Sputtering Mål

  Titanförstoftningsmålet är tillverkat av titanmetall. Som metall är titan känt för sitt höga hållfasthet-till-viktförhållande. Det är en stark metall med låg densitet som är ganska seg (särskilt i...

  Mer
• Titan (Ti) Sputtering Target

  Titanförstoftningsmålet är tillverkat av titanmetall. Som metall är titan känt för sitt höga hållfasthet-till-viktförhållande. Det är en stark metall med låg densitet som är ganska seg (särskilt i...

  Mer
• Volfram (W) Fräsning Mål

  Tungsten sputtering mål är gjorda av hög ren volframmetall, som vanligtvis är ömtålig och svår att bearbeta. Om volfram görs till ett mycket rent material kan det behålla sin hårdhet (mer än för...

  Mer
• Vanadin（V） Sputtrande mål

  Vanadinförstoftningsmål delar egenskaper med sitt källmaterial. Vanadin är ett kemiskt grundämne med symbol V och atomnummer 23. Det är en hård, silvergrå, seg, formbar övergångsmetall.

  Mer
• Järn (Fe) Sputtering Target

  Järn är den mest använda metallen i världen. Den är metallisk-grå till färgen, seg, ferromagnetisk och rostar lätt när den utsätts för syre. Den har en smältpunkt på 1 535 grader , en densitet på...

  Mer
• Ytterbium（Yb） Sputtringsmål

  Ytterbium-sputtermål är ett metallmål tillverkat av Ytterbium (Yb)-metall med hög renhet. Den har en smältpunkt på 824 grader, en kokpunkt på 1193 grader och en densitet på 6,965 g/cm3.

  Mer
• Yttrium（Y） Sputtringsmål

  Yttrium, den kemiska symbolen är Y och atomnummer 39. vilket är det första sällsynta jordartsmetalliska grundämnet som upptäckts, det är en grå svart metall med formbarhet.

  Mer
• Zink (Zn) Sputtering Mål

  Zinkförstoftningsmål har samma egenskaper som sitt råmaterial. Zink är ett kemiskt grundämne med symbolen Zn och atomnummer 30. det är en silvervit, blåaktig metall, i rumstemperatur, den är...

  Mer
• Zirkonium (Zr) Sputtering Target

  Zirkoniumförstoftningsmål har samma egenskaper som sitt råmaterial. Dess densitet är 6,49 g/cc, smältpunkten är 1852 grader och ångtrycket är 10 -4 Torr vid 1987 grader .

  Mer
• Lutetium (Lu) Sputtering Target

  Lutetium sputtering target är ett metallmål tillverkat av högren lutetium (Lu) metall. Den har en smältpunkt på 1663 grader, en kokpunkt på 3395 grader och en densitet på 9,84 g/cm3.

  Mer